PROMOSOLV NEO A2: 取代 3M Novec™ 71IPA，專攻 SMT 與封裝製程的高滲透強效清洗技術結合醇類強化配方，在 PFAS-Free 的安全基礎上，徹底掃除細間距組件下的化學殘留。
隨著全球環境法規進入嚴格監控期，特別是 3M™ Novec™ 71IPA 與 7100 的退場，您的製程需要一個更強大、更安全的延續方案。Inventec 傾力研發的 PROMOSOLV™ NEO A2，正是為了滿足更高標準的「去助焊劑」與「快速乾燥」需求而生。
作為 Greenway 永續系列的核心成員，A2 結合了尖端化學性能與企業社會責任，助您在淨零轉型的浪潮中，依然保有卓越的產能競爭力。
作為 Greenway 永續系列的核心成員，A2 結合了尖端化學性能與企業社會責任，助您在淨零轉型的浪潮中，依然保有卓越的產能競爭力。
產品核心優勢Core Product Advantages
PROMOSOLV™ NEO A2 在維持環保特性的基礎上，強化了對頑固污染物的去除能力，是半導體後段製程的強效後盾。
- 強化去汙效能： 相比一般溶劑，NEO A2 針對高鉛焊錫膏（如 HT 301T）或長效型助焊膏焊接後的燒結殘留物，具備更快的溶解速度。
- 極佳的表面張力控制： 具備極低表面張力（14.5 mN/m），能輕易滲透進 Flip Chip（覆晶） 的微小間隙與 High-Density Interconnect (HDI) 結構中。
- 無閃點安全性： 屬於非易燃液體，在高溫汽相清洗（Vapor Degreasing）設備中運行極其安全，無需防爆特殊配置。
安全與環保承諾Safety & Environmental Commitment
針對台灣半導體產業對「化學品生命週期」的高度關注，NEO A2 提供符合未來規範的物理特性。
- 極低 GWP（全球暖化潛勢）： 數值遠低於傳統清洗劑，協助封裝測試廠（OSAT）減少範疇三（Scope 3）的碳排放。
- 零臭氧消耗（Zero ODP）： 保護大氣層，符合台灣與國際最嚴苛的環保法規。
- 化學物理穩定性： 不含酸性物質，在多次蒸餾循環後仍能保持中性，不會損傷設備或精密半導體零組件。
卓越效能Exceptional Performance
在追求高信賴度的半導體應用中，NEO A2 確保了封裝後的電器特性不受干擾。
- 殘留物「零」檢出： 配合汽相清洗製程，能有效去除離子污染，防止晶片在長期運作中產生電化學遷移或漏電。
- 卓越的材料兼容性： 針對半導體常用的導線架（Leadframes）、陶瓷基板、金屬蓋板（Lids）以及多數工程塑料均無侵蝕。
- 製程一致性： 穩定的共沸（Azeotropic）配方，確保清洗槽內的成分不會隨蒸發時間改變，維持生產線品質穩定。
成本優化cost optimization
NEO A2 透過製程效率的提升，幫助企業在環保與成本之間取得平衡。
- 低沸點、低能耗： 沸點約 45℃，能大幅縮短加熱啟動時間，並降低清洗設備的日常用電成本。
- 高效回收率： 極佳的熱穩定性讓溶劑在汽相清洗設備中能進行無數次的高效率回收，減少藥水補充與廢液處理頻率。
- 免除廢水處理成本： 全乾式製程，無需像傳統水洗需要投入大量成本在廢水過濾、中和與排放監測。
適用領域Application area
- 功率半導體封裝： 徹底清洗高溫焊接後的厚重助焊劑殘留。
- 車用電子模組 (Automotive Electronics)： 滿足極高標準的潔淨度規範，確保長期可靠性。
- 高階醫療電子： 針對植入式或高精密診斷器材的精密清洗。
- 航太封裝 (Space Grade)： 提供在極端環境下運作所需的極致表面潔淨度。
健康、安全與環境
PROMOSOLV NEO A2是⼀款GREENWAY產品
主要減少影響因素:
人體安全與健康
- 無閃點的安全保障： 具備不燃特性且完全無閃點，即便在高強度工況或設備運轉中，也能確保 100% 的操作安全性。這不僅簡化了倉儲規範，更大幅降低了工廠發生火災事故的隱患，為企業營運提供絕對的穩定性。
- 低毒性、無腐蝕的友善設計： 針對操作人員健康設計，具有極低毒性，不含危害性化學物質；同時對各種精密基材展現極佳的相容性，在強效去汙的同時，不對零件產生腐蝕損傷，確保產出品質的一致性。
環境保護與資源節約
- 超低全球暖化潛能值（Ultra-low GWP）： 領先業界的環保規格，GWP 指標極低（GWP < 10），助企業輕鬆對應日益嚴苛的國際碳排放監管要求，實踐綠色轉型。
- 優化沸點配置： 透過與高沸點溶劑形成穩定的共沸物（Azeotrope），有效降低整體運作溫度。
- 大幅降低能耗： 較低的運作溫度意味著更少的電力消耗與預熱時間，同時降低溶劑因高溫揮發導致的損耗，幫助企業在能源與原物料成本上取得雙贏。
- 極簡化的資源配置： 本產品無需後續水洗製程，徹底消除廢水處理負擔。透過高效回收循環機制，從源頭減少化學品與能源的浪費，打造精實、高效且低負擔的清潔解決方案。
流程範例
最佳製程取決於多種因素，例如操作條件、設備、所需的清洗時間以及污染物的性質。我們的團隊隨時準備為您提供建議。
分離的助溶劑
TOPKLEAN EL 80
Conc: 100%
Temp: 60/116
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 60/116
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 30/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 30/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A2 vapor
Temp: 33/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A2 vapor
Temp: 33/129
Time: 5-60 sec
DRYING
單溶劑法：去除含氟潤滑劑
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 30/86
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 30/86
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A2vapor
Temp: 33/91
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A2vapor
Temp: 33/91
Time: 5-60 sec
DRYING