PROMOSOLV NEO A1 : 取代 3M Novec™ 7100，具備卓越材料相容性與無痕乾燥效果的環保首選專為光學鏡片、敏感基材與精密組件設計，提供 Greenway 等級的超低碳足跡防護。
隨著全球環境法規趨嚴及 3M™ Novec™ 系列即將停產，電子與半導體產業正面臨製程轉換的關鍵時刻。PROMOSOLV™ NEO A1 是 Inventec 研發的新一代「Greenway」環保溶劑，不僅完全不含 PFAS (全氟及多氟烷基物質)，更具備極低的全球暖化潛勢 (GWP < 1)，是您兼顧高效能清洗與企業永續 (ESG) 的最佳解答。
適用從超低溫到高溫，確保關鍵電子元件在單相系統中的長期穩定與高效散熱！
- 介電傳熱流體
- 沸點：110°C/230°F
- 無閃點& 超低GWP
產品核心優勢Core Product Advantages
PROMOSOLV™ NEO A1 是一款專為汽相脫脂（Vapor Degreasing）設計的非易燃溶劑，能應對最嚴苛的精密清洗挑戰。
- 強效溶解能力： 具備極佳的 KB 值（Kauri-Butanol value），能徹底清除各類助焊劑殘留、油汙、蠟以及指紋。
- 優異的滲透性： 低表面張力特性，使其能滲透進微小間距（Fine-pitch）元件下方與複雜的幾何結構，確保無死角清洗。
- 乾燥速度極快： 零件出爐即乾燥，無需額外的烘烤製程，大幅縮短生產週期。
安全與環保承諾Safety & Environmental Commitment
在全球供應鏈對 PFAS 與全球暖化潛勢（GWP）日益關注的當下，NEO A1 是台灣企業轉型的首選。
- 極低全球暖化潛勢 (GWP)： 顯著低於傳統溶劑（如 HFC 或舊型氟化溶劑），協助企業達成碳中和目標。
- 非易燃安全特性： 無閃點（No Flash Point），不屬於危險品運輸範疇，大幅降低廠房存儲與操作風險。
- 零臭氧損耗 (Zero ODP)： 完全符合蒙特婁議定書規範，是傳統氟氯烴（HCFC）溶劑的理想替代品。
- 工作環境友善： 暴露限制值（Exposure Limit）較高，保障第一線作業人員健康。
卓越效能Exceptional Performance
針對台灣領先的半導體與高階醫材製造，NEO A1 提供無與倫比的潔淨度。
- 低表面張力： 相比傳統水洗，NEO A1 具備更好的流動性，能輕鬆帶走 Flip Chip 或 BGA 元件下的微小雜質。
- 穩定的共沸特性 (Azeotropic)： 在汽相清洗設備中表現極為穩定，確保從第一件到最後一件產品的清洗品質始終如一。
- 無需超音波即可清洗： 在許多應用中僅需汽相與噴淋即可達成極高潔淨度，避免精密元件受損。
成本優化cost optimization
從製程整合與設備維護的角度出發，實現真正的經濟效益。
- 低能耗運作： 較低的沸點（約 40-60℃，視具體配方而定）意味著更短的加熱時間與更低的電力消耗。
- 溶劑可回收再生： 透過汽相清洗系統的冷凝與過濾，溶劑可重複循環使用，大幅降低材料補充成本。
- 免除水處理環節： 與水洗製程相比，NEO A1 無需耗費純水（DI Water）且完全沒有廢水處理的負擔與風險。
適用領域Application area
PROMOSOLV™ NEO A1 在台灣各個核心成長領域均展現其價值：
- 半導體與封裝： 封裝後的助焊劑殘留去除，確保電性能穩定。
- 航空航太與國防： 高可靠度電路板（PCB）清洗，符合 MIL 軍規要求。
- 精密機械與光學： 關鍵精密零件的去油汙、去指紋處理。
- 電子重工 (Rework)： 針對維修後的電路板進行局部或整體潔淨化處理。
流程範例
最佳製程取決於多種因素，例如操作條件、設備、所需的清洗時間以及污染物的性質。我們的團隊隨時準備為您提供建議。
分離的助溶劑
TOPKLEAN MC 20A
Conc: 100%
Temp: 47/116
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 47/116
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
DRYING
單溶劑法：去除含氟潤滑劑
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
DRYING